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Beschichten nach den CVD‐Verfahren
Author(s) -
Broszeit E.,
Gabriel H. M.
Publication year - 1980
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/mawe.19800110107
Subject(s) - chemistry , physics
Die Abscheidung von Schichten aus der Gasphase (Chemical Vapour Deposition) wird hinsichtlich der Anlagentechnik und der Verfahrensabläufe erläutert. Es werden mögliche Schicht‐Substratwerkstoffkombinationen und deren Anwendung aufgezeigt. Die Wechselwirkungen zwischen Abscheidebedingungen und Eigenschaften werden dargestellt, und schließlich wird auf die Wärmebehandlung eingegangen. In zunehmendem Maße wird es durch ökonomische Gegebenheiten erforderlich, Werkzeuge und Bauteile zwecks Verschleiß‐ und Korrosionsschutz mit funktionellen Oberflächenschichten zu versehen. Unter vielen anderen Beschichtungsverfahren hat die CVD‐Beschichtung gerade auf dem Gebiet der Hartstoff‐Beschichtung große Bedeutung erlangt. Aber auch auf anderen Gebieten wie z. B. der Elektronik oder der Energiegewinnung wird das CVD‐Verfahren an Bedeutung gewinnen, dies vor allem dann, wenn die für die Reaktionen benötigten Temperaturen verringert werden können.

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