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Beschichten nach den PVD‐Verfahren
Author(s) -
Broszeit E.,
Gabriel H. M.
Publication year - 1978
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/mawe.19780090807
Subject(s) - chemistry , die (integrated circuit) , materials science , nanotechnology
Anhand der Literatur wird aufgezeigt, wie die verschiedenen PVD‐Verfahren (Aufdampfen, Sputtern, Ionenplattieren) ablaufen, welche Schichten erzeugt werden können, wodurch die Schichteigenschaften beeinflußt werden können und wie hoch die Beschichtungsraten sind.