Mikroskop‐photometrische Untersuchungen des Wachstums von Silbersulfidschichten

Bei Korrosionserscheinungen findet man häufig dünne Oberflächenfilme, deren Dickenbestimmung sehr wichtig sein kann, entweder um über das Verhalten des Grundmaterials oder über das der Korrosionsschicht Aussagen machen zu können. In der vorliegenden Arbeit wird eine optische Methode zur Untersuchung der Schichtdicke und des Wachstums absorbierender Oberflächenschichten beschrieben. Mit Hilfe der Mikroskop‐Photometrie wird das spektrale Reflexionsvermögen dünner Schichten bei senkrechtem Lichteinfall bestimmt und mit theoretisch berechneten Kurven verglichen, wenn die optischen Konstanten des Grund‐ und Schichtwerkstoffs bekannt sind. Diese Methode erwies sich als geeignet, das Anlaufverhalten von Silber in schwefelhaltiger Atmosphäre zu untersuchen. Dabei konnten Schichten ab ca. 1 nm nachgewiesen werden. Es werden Wachstumskurven für die Silbersulfidschicht bei verschiedenen Temperaturen angegeben und das Erscheinungsbild des Anlaufverhaltens näher diskutiert.