Elektrochemische Charakterisierung von TiC‐ und Ti(C,N)‐Schichten auf WC/Co‐Hartmetallen

TiC‐ und Ti(C,N)‐Schichten, die mittels CVD‐Verfahren auf WC/Co‐Hartmetallsubstraten abgeschieden wurden, können durch eine Kombination von elektrochemisch gesteuertem Schichtabtrag und voltammetrischer Messungen bzgl. Stöchiometrie (C/N‐Verhältnis) und Profil charakterisiert werden. Im H 2 SO 4 ‐Elektrolyt ist ein gleichmäßiger, der umgesetzten Ladung proportionaler Schichtabtrag mit hoher Ätzkantensteilheit einstellbar. Der Einfluß des C/N‐Verhältnisses auf das elektrochemische Verhalten von Ti(C,N) wurde mit definierten Pulverproben unter Verwendung der Kohle‐Paste‐Elektrode untersucht und zur Kalibration der elektrochemischen Signale an CVD‐Schichten eingesetzt.