Schutz von hochschmelzenden Metallen und Graphit gegen Oxydation und Heißkorrosion bis 1500°C durch aufgesinterte MoSi 2 ‐Schichten

Durch Plasmaspritzen oder isostatisches Heißpressen aufgebrachte MoSi 2 ‐Schichten auf Ta un Nb wirken oxidationsschützend durch die Bildung eines glasigen Überzugs aus SiO 2 . Die Diffusion des Si zum Metall erfolgt dabei nur langsam (geringe Beweglichkeit des Si in den Nb‐ und Ta‐haltigen Me 5 Si 3 ‐Zwischenschichten); die Geschwindigkeit der Oxidation is dann abhängig von der nur langsam ablaufenden Sauerstoffpermeation durch die Glasschicht. Auf Ta würde danach eine 200 μm dicke Silicidschicht bei 1500 °C einige 1000 h lang gegen Oxidation schützen. Silicidschichten auf Graphit müssen zusätzlich durch eine Diffusionsbarriere gegen Aufkohlung geschützt werden; hierfür werden Zwischenschichten aus TiC erprobt. Die aus den Diffusionsdaten berechneten Standzeiten wurden auch bei Oxidationsversuchen gefunden: so waren Ta und Nb mit Silicidschicht an Luft bei 1500 °C 1000 h, bei 1200 °C 4000 h, und Kohlenstoff mit TiC‐Zwischenschicht bei 1500 °C 400 h lang beständig. Bei Einsatz unter Temperaturwechsel muß der Ausdehnungskoeffizient der entstehenden Glasschicht durch GeO 2 ‐Zusatz an den des Basismaterials angeglichen werden.