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Thermische Stabilität anodisch erzeugter Oxidschichten auf Niob und Tantal
Author(s) -
Heusler K. E.,
Schlüter P.
Publication year - 1969
Publication title -
materials and corrosion
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.487
H-Index - 55
eISSN - 1521-4176
pISSN - 0947-5117
DOI - 10.1002/maco.19690200303
Subject(s) - niobium , chemistry , tantalum , oxide , oxygen , niobium oxide , metal , dissolution , inorganic chemistry , nuclear chemistry , organic chemistry
Bei der anodischen Oxydation von Niob und Tantal entstehen glasartige Oxidschichten mit einem gewissen Sauer‐stoffunterschuß, der im Oxid in Form von Sauerstoffleerstellen vorhanden ist. Die Leerstellenkonzentration bestimmt die Diffusionsgeschwindigkeit von Sauerstoff und die Elektronenleitfähigkeit im Oxid. Beim Erhitzen in einer Sauerstoff‐atmosphäre hemmen anodisch erzeugte Oxidschichten auf Tantal die Auflösung von Sauerstoff im Metall und verzögern die Ausbildung schnell wachsender, poröser Oxidschichten. Die Hemmung beruht auf einer langsamen Diffusion von Sauerstoff im Oxid. Die Kinetik der Phasen‐ grenzreaktionen zwischen Nioboxid und Sauerstoff wurde aus Messungen der Elektronenleitfähigkeit der Oxidschicht ermittelt. Das Nioboxid reagiert mit Metall und Bildung von Sauerstoffleerstellen. Im Kontakt mit Sauerstoff werden Sauerstoffleerstellen im Oxid aufgefüllt.