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Die Zersetzung von Wasserstoffsuperoxyd auf metallischem Kupfer
Author(s) -
Markovic Tihomil
Publication year - 1954
Publication title -
materials and corrosion
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.487
H-Index - 55
eISSN - 1521-4176
pISSN - 0947-5117
DOI - 10.1002/maco.19540050803
Subject(s) - chemistry
Die Zerfallsgeschwindigkeit von H 2 O 2 ‐ Lösungen niedriger Konzentration auf metallischen Kupfer bei 20°C ergab sich als eine Reaktion nullter Ordnung. Bei höheren Temperaturen ist die Reaktionsgeschwindigkeit durch eine Induktionsperiode bestimmt. Der Reaktionsmechanismus des H 2 O 2 ‐ Zerfalls auf metallischem Kupfer kann durch die verschiedenen Adsorptionspotentiale von O, HO 2 und H 2 O 2 erklärt werden. Mit Hilfe der Hickling‐Methode wurde die Bildung der Doppelschicht auf einer Cu‐elektrode von 0,25 cm Dmr. im redestillierten Wasser, in 1%iger H 2 SO 4 und in 1%iger bsw. 5%iger H 2 O 2 ‐Lösung untersucht. Auf die Größe der H‐Doppelschicht haben nur größere H 2 O 2 ‐Konzentrationen einen deutlichen Einfluß. Die Aufladung der Doppelschicht in redestilliertem Wasser unter einer N 2 ‐Atmosphäre ist von der selben Größenordnung wie die aller polykristallinen Metalle.