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Massenspektrometrische Wandstromanalyse an den stehenden Schichten der positiven Säule der Wasserstoff‐Glimmentladung
Author(s) -
Schmidt M.
Publication year - 1969
Publication title -
beiträge aus der plasmaphysik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.531
H-Index - 47
eISSN - 1521-3986
pISSN - 0005-8025
DOI - 10.1002/ctpp.19690090304
Subject(s) - chemistry , physics , microbiology and biotechnology , biology
Mit der Methode der “ambipolaren Effusion der Ladungsträger” werden Wandstrom‐untersuchungen an den stehenden weiten roten Einzelschichten der positiven Säule der Wasserstoffglimmentladung (Rohrradius R = 1,5 cm, p = 0,75 Torr, i = 5–20 mA) durchgeführt. Es zeigt sich eine Modulation der Ionen‐ und Elektronenwandstromdichte längs der Schicht, wobei der Ionenstrom neben dem Maximum am Schichtkopf noch ein 2. im Schichtrumpf aufweist. Möglichkeiten zur Entstehung dieses 2. Maximums sowie Probleme der Ambipolarität des Wandstromes werden diskutiert. Durch die massenspektrometrische Analyse konnten die Wasserstoffionen H 3 + , H + und H 2 + in einem Intensitätsverhältnis von etwa 10 3 :10 2 :1 fest‐gestellt werden. Der H + Anteil steigt im Bereich des leuchtenden Schichtkopfes an, was auf den höheren Dissoziationsgrad des Neutralgases zurückzuführen ist. Der Anstieg der H 2 + ‐Komponentente im Dunkelraum vor dem Schichtrand ist hervorgerufen durch den Energiegewinn der H 2 + Ionen im Potentialsprung am Schichtrand, womit eine Verkleinerung des Wirkungsquerschnittes für die H 3 + Bildung verbunden ist.