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Entstehung von Eigen‐Zwischengitteratomen beim chemisch‐mechanischen Polieren von Silizium
Author(s) -
Reichel J.
Publication year - 1978
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19780130615
Subject(s) - chemistry , physics
Abstract Es wird die Entstehung von Eigen‐Zwischengitteratomen beim chemisch‐mechanischen Polieren in p‐leitenden Siliziumscheiben beschrieben. Die Identifizierung erfolgt durch Vergleich des Verhaltens mit Scheiben, in denen Eigen‐Zwischengitteratome durch Abschrecken erzeugt worden sind. In diesem Zusammenhang wurde der Einfluß der Oberflächenbeschaffenheit auf das Ausheilen des Defekts untersucht.