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Untersuchungen zur Wechselwirkung von Ar‐, O 2 ‐ und H 2 ‐Niederdruckplasmen mit Metallschichten
Author(s) -
Tiller H.J.,
Holzinger H.W.,
Demme U.,
Lenke D.,
Meyer K.
Publication year - 1975
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19750101108
Subject(s) - physics , chemistry
Abstract Bie der Wechselwirkung von Bestandteilen der positiven Säule einer Glimmentladung mit Metallschichtoberflächen kommt es zur Abtragung von Oberflächenmaterial. Die Abtragungsrate liegt weit über der aus Sputterergebnissen für die niederenergetischen Ionen im Oberflächenbereich zu erwartenden. Wird die Abtragung im Impulsbetrieb durchgeführt, kommt es zu einer Erhöhung der Abtragungsgeschwindigkeit, die auf eine Störung des Gittergefüges durch Rekonstruktionserscheinungen und Gaseinbau in den Impulspausen zurückgeführt wird. Das Abtragungsverhalten der Schicht ist stark vom Plasmagas und den Wandstromdichten abhängig, wobei es bei geringen Wandstromdichten ( i W ∼10 −5 A. cm −2 ) durch die Verminderung der Abtragung möglich wird, die infolge der Plasma‐Trägergas‐Metall‐Wechselwirkung auftretenden reaktiven Oberflächenveränderungen und die Gasaufnahme der Schicht zu untersuchen. Gestützt durch Elektronenbeugungsaufnahmen an Ni‐ und Au‐Schichten sowie durch kinetische Auswertung der Abtragungsraten, wird die Vorstellung entwickelt, daß während der Plasmaeinwirkung eine kritische Oberflächenschicht von ca. 30 bis 50 Å Dicke im Gleichgewicht mit einer darüberliegenden Metalldampf‐Plasmagas‐Phase steht.