Eine spektroskopische Methode zur Untersuchung des Anfangsstadiums der Metallschichtbildung auf Glas

Die spektroskopische Messung der Wasserstoff‐Atomkonzentration in der positiven Säule einer Glimmentladung ermöglicht einen sehr einfachen Nachweis geringer Metallbelegungen (z. B. Nickel) auf oxidischen Oberflächen. – Die kinetische Auswertung der experimentellen Ergebnisse zeigt, daß sowohl die Geschwindigkeit der Bildung als auch der heterogenen Rekombination der Wasserstoffatome von der Nickelbelegung der Oberfläche abhängig sind. Aus den kinetischen Daten kann man Rückschlüsse auf den Verlauf und die Geschwindigkeit der Belegung der Glasoberfläche ziehen. Es läßt sich das experimentell schwer zugängliche Anfangsstadium der Schichtbildung erfassen. – Messungen des elektrischen Widerstandes zeigen die Inselstruktur der dünnen Nickelfilme. Aufgrund der Oberflächendiffusion der Wasserstoffatome besitzt ein solcher diskontinuierlicher Film die gleiche katalytische Aktivität für die Wasserstoff‐Atomrekombination wie eine geschlossene Schicht.