Zur Herstellung und Untersuchung einkristalliner isolierender Substrate für mikroelektronische Zwecke

Die an Substrate für die Halbleiterepitaxie zu stellenden Forderungen werden diskutiert und unter diesem Gesichtspunkt die wichtigsten der bisher verwendeten einkristallinen isolierenden Substratmaterialien erörtert. Ausführlicher wird auf die Materialbesonderheiten des Mg‐Al‐Spinells eingegangen und über eigene Untersuchungen sowohl an „as grown” als auch an getemperten Verneuil‐Spinellen berichtet. Die Ergebnisse verschiedener Polierverfahren bei der Substratherstellung wurden rasterelektronenmikroskopisch sowie mit Hilfe der Reflexionselektronenbeugung untersucht und miteinander verglichen. Eine Ätzung der mechanisch polierten Substrate mit heißer Phosphorsäure brachte, nach dem Kriterium der Reflexionselektronenbeugung, eine vollständige Abtragung der gestörten Oberflächenschicht. Abschließend wird über erste Ergebnisse bei der Herstellung und Untersuchung elektronenmikroskopisch durchstrahlbarer Mg‐Al‐Spinellsubstrate berichtet.