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Phasenbildung in Ni/Si‐Schichten
Author(s) -
Beck U.,
Neumann H.G.,
Becherer G.
Publication year - 1973
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19730081005
Subject(s) - physics , chemistry
Ni‐bedampfte amorphe Si‐Schichten werden während des Temperns im Elektronenmikroskop untersucht. Es wird gezeigt, daß im Verlauf des Diffusionsprozesses in Abhängigkeit vom Ni‐Anteil and der Schicht acht Phasen gebildet werden. Generell entstehen zunächst metallarme Verbindungen. Aus den Ergebnissen wurde geschlossen, daß die Phasenumwandlungen kinetisch und nicht thermodynamisch bedingt sind.