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Oberflächeneffekte an Silizium‐Einkristallen
Author(s) -
Köhler L.,
Rausch B.
Publication year - 1972
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19720071106
Subject(s) - chemistry
Abstract Nach der Diffusion oder Temperung von Si‐Planarscheiben im Vakuum oder in nicht oxydierender Atmosphäre, wurden Abtragungen unterschiedlicher Geometrie an der Oberfläche beobachtet. Charakteristische Ätzstrukturen wurden nach der Arsen‐Diffusion unter bestimmten experimentellen Bedingungen gefunden. Als Ursache der Abtragungen wird die Anwesenheit von Wasserspuren angenommen.