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Zur Diffusion von Hf und Ti in Ni
Author(s) -
Bergner D.
Publication year - 1972
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19720070605
Subject(s) - chemistry
Fremddiffusionskoeffizienten und Löslichkeiten von Hf in Ni wurden an Sandwichproben mit der Mikrosonde gemessen. Die Temperaturabhängigkeit der Fremddiffusionskoeffizienten von Hf in Ti werden mit den entsprechenden Werten für das System Ti in Ni verglichen. Für die beiden Systeme wird über etwa vier Größenordnungen eine gute Arrheniusbeziehung festgestellt. Die gefundene Löslichkeit von Hf in Ni liegt etwa um den Faktor 2 über den bisher aus der Literatur bekannten Werten.

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