Premium
Emissionselektronenmikroskopische Untersuchungen zur selektiven Materialabtragung durch Ionenätzen an intermetallischen Verbindungen
Author(s) -
Wetzig K.,
Wittig H.
Publication year - 1970
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19700050412
Subject(s) - chemistry
In einem Emissionselektronenmikroskop wurden an verschiedenen intermetallischen Verbindungen Untersuchungen zur Materialabtragung beim Ionenätzen durchgeführt. Da die Abbildungselektronen durch den Ionenbeschuß ausgelöst wurden, konnte das zeitliche Fortschreiten der Ionenätzung unmittelbar beobachtet werden. Bei dem untersuchten Probenmaterial handelte es sich um die Lavesphasen NbFe 2 und TaFe 2 mit Einlagerungen der μ‐Phasen NbFe bzw. TaFe. Für verschiedene Beschußionen und Probentemperaturen wurden die in Abhängigkeit von der Beschußdauer beobachteten Ätzstrukturen photographisch festgehalten. Anhand eines einfachen Modells für die durch Ionenbeschuß hervorgerufene Materialabtragung polykristalliner zweiphasiger Objekte wurde eine quantitative Auswertung des Bildmaterials versucht. In allen untersuchten Fällen wurden die Lavesphasen stärker abgetragen als die eingeschlossenen μ‐Phasen. Die Materialabtragung nahm außerdem mit steigender Objekttemperatur und wachsender Massenzahl der Beschußionen zu.