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Zur Herstellung von Kupfer‐Einkristallschichten durch Hochvakuumaufdampfung
Author(s) -
Kleber W.,
Ickert L.,
Stüdemann K.
Publication year - 1970
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19700050403
Subject(s) - chemistry , microbiology and biotechnology , biology
Kupfer wurde bei einem Vakuum von 5 bis 8 · 10 −6 Torr auf (001) von NaCl aufgedampft. Die Trägerkristalle wurden in Luft gespalten sowie abgedampft und mit Wasser benetzt. Die in Luft gespaltenen Proben wurden einer anschließenden Temperung ausgesetzt. Die Untersuchung der erzeugten Cu‐Schichten erfolgte mit einem Transmissionselektronenmikroskop durch Beugung und Abbildung. Es wurden die Bedingungen (Trägertemperatur, Schichtdicke, Aufdampfrate) festgestellt, bei denen Cu auf NaCl in einer Einkristall‐Orientierung aufwächst.

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