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Ellipsometrische Bestimmung der Dicke und Brechzahl dünner Schichten auf Silizium
Author(s) -
Frenzel M.
Publication year - 1969
Publication title -
kristall und technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.377
H-Index - 64
eISSN - 1521-4079
pISSN - 0023-4753
DOI - 10.1002/crat.19690040119
Subject(s) - physics , materials science , chemistry
Es wird auf die allgemeinen Grundlagen der Ellipsometrie und Fragen der Meßtechnik eingegangen. Zur Bestimmung der Dicke und Brechzahl von dünnen Schichten auf Silizium wird ein Polarisationsspektrometer (Ellipsometer) mit Halbschattenanordnung verwendet. Untersucht werden die bei der Siliziumplanartechnik auftretenden Oxid‐, Silikat‐ und Lackschichten. Die Auswertung erfolgt mit Hilfe der ARCHERS chen Lösung der Ellipsometergleichung für dünne Schichten auf Silizium.