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Influence des principaux paramètres opératoires sur le dépôt de silicium à partir de silane par CVD en lit fluidisé en vue de limiter les problèmes d'agglomération
Author(s) -
Ramiro Ruvalcaba J. Rodriguez,
Caussat Brigitte,
Hemati Merhdji,
Couderc JeanPierre
Publication year - 2000
Publication title -
the canadian journal of chemical engineering
Language(s) - French
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.404
H-Index - 67
eISSN - 1939-019X
pISSN - 0008-4034
DOI - 10.1002/cjce.5450780513
Subject(s) - humanities , physics , art
Le dépôt CVD de silicium à partir de silane sur des poudres d'un lit fluidisé constitue une technique de modification de surface efficace et flexible, qui présente cependant l'inconvénient majeur de voir la couche de particules s'agglomérer au‐delà d'une certaine concentration d'entrée en réactif. C'est pour progresser dans la compréhension de ce phénomène que des conditions opératoires jusqu'alors peu explorées, couvrant des températures inférieures à 550°C, ont été étudiées à la fois expérimentalement et par voie théorique, à l'aide de modèles globaux de simulation de type Kato et Wen. L'influence des principaux paramètres opératoires a été analysée en détail, non seulement sur le plan de l'efficacité globale du procédé, mais aussi en ce qui concerne le comportement thermique du lit fluidisé, directement lié aux mouvements des particules solides, et done à I'éventuelle prise en masse de la couche.