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Die Erzeugung dünner Schichten. Das PECVD‐Verfahren: Gasphasenabscheidung in einem Plasma
Author(s) -
Unger Eugen
Publication year - 1991
Publication title -
chemie in unserer zeit
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.217
H-Index - 24
eISSN - 1521-3781
pISSN - 0009-2851
DOI - 10.1002/ciuz.19910250306
Subject(s) - plasma enhanced chemical vapor deposition , materials science , chemistry , chemical vapor deposition , nanotechnology
Dünne Schichten für Komponenten der modernen Mikroelektronik entstehen oft nach einem Verfahren, das als „Plasma enhanced chemical vapor deposition” (abgekürzt: PECVD) bezeichnet wird. Amorphe Solarzellen, Mikroprozessoren und Informationsspeicher sind ohne diese Methode, die physikalische Bearbeitungstechniken und chemische Reaktionsführung kombiniert, nicht vorstellbar.