Die Erzeugung dünner Schichten. Das PECVD‐Verfahren: Gasphasenabscheidung in einem Plasma

Dünne Schichten für Komponenten der modernen Mikroelektronik entstehen oft nach einem Verfahren, das als „Plasma enhanced chemical vapor deposition” (abgekürzt: PECVD) bezeichnet wird. Amorphe Solarzellen, Mikroprozessoren und Informationsspeicher sind ohne diese Methode, die physikalische Bearbeitungstechniken und chemische Reaktionsführung kombiniert, nicht vorstellbar.