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Neue Erkenntnisse bei der radiometrisch‐elektronischen Messung von Schichtdicken
Author(s) -
Ott Albert
Publication year - 1974
Publication title -
chemie ingenieur technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.365
H-Index - 36
eISSN - 1522-2640
pISSN - 0009-286X
DOI - 10.1002/cite.330461903
Subject(s) - chemistry
Ausgehend von einer kurzen Darstellung der heute wichtigsten technischen Schichtdickenmeßverfahren wird das Prinzip des Betarückstreuverfahrens erläutert. Die theoretische Beschreibung der Abhängigkeit des Rückstreukoeffizienten von den Werkstoff‐Parametern und der zu messenden Schichtdicke sowie den Gerätekonstanten der Meßeinrichtung wird im Ergebnis dargestellt. Sie läßt eine gezielte Optimierung einer Meßeinrichtung für den jeweiligen Anwendungsfall zu. Eine Auswahl charakteristischer Anwendungsbeispiele zur Schichtdickenmessung nach dem Betarückstreuverfahren wird angegeben. Weiterhin wird mitgeteilt, welche Werkstoffkombinationen sich mit dem Verfahren messen lassen. Zur Bestimmung der Meßunsicherheit dient ein Nomogramm; die zugrunde liegenden qualitativen Zusammenhänge werden erläutert. Die zur Verfügung stehenden Meßgeräte und Meßplätze werden kurz beschrieben. Weiterhin geht die Arbeit noch auf die Messung von Legierungszusammensetzungen, auf die Messung von Mehrfachschichten mit dem 2‐Strahler‐Verfahren und die radiometrische Dichtemessung von Festkörpern im Rückstreuverfahren ein.

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