Zur Struktur teilchenhaltiger Bindemittelschichten

Es werden Methoden zur Ermittlung der Struktur von teilchenhaltigen Bindemittelschichten am Modell zinkoxid‐haltiger Siliconharz‐Schichten, wie sie in der Elektrophotographie Verwendung finden, beschrieben. Es zeigt sich, daß Schichten, die schlecht dispergiertes Zinkoxid enthalten, zur Porosität neigen. Aufgrund der Untersuchungen können Aussagen über den Mechanismus gemacht werden, der zum Entstehen der Poren führt. Über zellartige Strukturen, die im Zusammenhang mit den Poren beobachtet worden sind, wird berichtet. Es wird darauf hingewiesen, daß die gefundenen Strukturen nicht nur bei zinkoxid‐haltigen Siliconharzen, sondern auch bei anderen Systemen auftreten können. Möglichkeiten zur Vermeidung von Poren werden angegeben.