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Corrosion‐Resistant Microprocess Apparatuses by Means of CVD Coating with Tantalum
Author(s) -
Gietzelt Thomas,
Kraut Manfred,
Messerschmidt Florian,
Fürbeth Wolfram,
Dittmeyer Roland
Publication year - 2018
Publication title -
chemie ingenieur technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.365
H-Index - 36
eISSN - 1522-2640
pISSN - 0009-286X
DOI - 10.1002/cite.201700168
Subject(s) - tantalum , coating , corrosion , materials science , chemistry , metallurgy , nanotechnology
Die Wandstärken mikroverfahrenstechnischer Apparate sind mit denen konventioneller Rührkessel in der chemischen Industrie nicht vergleichbar. Bereits Chargenunterschiede innerhalb der technischen Spezifikationen für übliche korrosionsbeständige Werkstoffe können zu signifikanten Abweichungen der Abtragsraten führen und die Lebensdauer signifikant begrenzen. Um Korrosionserscheinungen möglichst vollständig auszuschließen, eignet sich Tantal aufgrund seiner hervorragenden Beständigkeit sehr gut. Es wird gezeigt, dass für Mikroapparate typische Kanalquerschnitte bei großer Länge mittels einer CVD‐Beschichtung völlig defektfrei und homogen mit Tantal beschichtet werden können. Dauertests in 70 %iger Schwefelsäure ergaben keinerlei Masseverlust oder Abtrag.