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Coating of Gas‐Borne Nanoparticles with SiO 2 in a Plasma‐Assisted CVD Process at Ambient Conditions
Author(s) -
Post Patrick,
Weber Alfred P.
Publication year - 2018
Publication title -
chemie ingenieur technik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.365
H-Index - 36
eISSN - 1522-2640
pISSN - 0009-286X
DOI - 10.1002/cite.201700109
Subject(s) - chemistry , coating , particle (ecology) , oxide , chemical engineering , polymer chemistry , organic chemistry , oceanography , engineering , geology
Ein plasma‐unterstützer Aerosolprozess wird vorgestellt, der die kontinuierliche Beschichtung von Partikeln mit Siliziumoxid bei Umgebungstemperatur ermöglicht. Dabei wird eine dielektrische Barriere‐Entladung genutzt, um verschiedene reaktive Spezies zu erzeugen. Tetraethylorthosilikat dient als Precursor. Da der Prozess bei Umgebungstemperatur erfolgt, können auch temperaturempfindliche Stoffe beschichtet werden. Ein weiterer Vorteil ist die weitgehende Unabhängigkeit des Prozesses von der Partikelquelle. Die erfolgreiche Beschichtung wird auf unterschiedlichen Partikelgeometrien und ‐materialien, wie Metallen, Salzen und Kunststoffen demonstriert und die Abhängigkeit der Schichtdicke von der Partikeloberfläche gezeigt. Zudem wird die im Prozess auftretende Änderung der Partikelanzahlkonzentration, die im Wesentlichen durch Agglomeration verursacht wird, diskutiert.