Modeling and Simulation of a Falling‐Film Microabsorber

In den letzten Jahren haben mikroverfahrenstechnische Prozesse zunehmend das Interesse der Industrie und der Forschungsgemeinschaft geweckt. Diese Prozesse finden in Apparaten mit charakteristischen Abmessungen im Mikro‐ und Submillimeterbereich statt. Eine wichtige Form der Mikroapparate stellen die Mikrofallfilmapparate dar, die eine Phasengrenzfläche bis zu 10 000 m 2 m –3 aufweisen. Um die Transportvorgänge in so einem Mikroapparat theoretisch untersuchen zu können, wurde ein rigoroses mathematisches Modell entwickelt, mit dessen Hilfe das Prozessverhalten ausführlich beschrieben werden kann. Das Modell liefert deutlich verlässlichere Vorhersagen gegenüber gängigen vereinfachten Modellierungsansätzen.