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Beiträge zur Chemie des Bors, 123. (Trimethylsilyl)borate aus Alkoxyboranen und Trimethylsilyllithium
Author(s) -
Biffar Werner,
Nöth Heinrich
Publication year - 1982
Publication title -
chemische berichte
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.667
H-Index - 136
eISSN - 1099-0682
pISSN - 0009-2940
DOI - 10.1002/cber.19821150311
Subject(s) - chemistry , trimethylsilyl , borane , medicinal chemistry , boron , stereochemistry , lewis acids and bases , organic chemistry , catalysis
Bei den Umsetzungen von Trimethylsilyllithium in Hexan bei −75°C mit Methoxyboranen R 3–n B(OCH 3 ) n (n = 1–3) entstehen keine Silylborane R 3–n B[Si(CH 3 ) 3 ] n , sondern die Silylborate Li{R 3–n B[Si(CH 3 ) 3 ] n+1 }. LiB[Si(CH 3 ) 3 ] 4 ( 1 ) fällt in zwei Isomeren an, von denen eines rein isoliert werden konnte. In Nebenreaktionen wirkt LiSi(CH 3 ) 3 methylierend, insbesondere in Gegenwart eines polaren Lösungsmittels. Die Hydridbrücken in 9‐Borabicyclo[3.3.1]nonan ( 11 ) spaltet LiSi(CH 3 ) 3 unsymmetrisch unter Bildung von 13 + 14 . Im Vergleich mit tert ‐Butylboranen sind die Si‐homologen (Trimethylsilyl)borane stärkere Lewis‐Säuren. Hierauf weisen sowohl die Boratbildung als auch das Fragmentierungsverhalten im Massenspektrometer hin. Die NMR‐Daten legen nahe, daß der s‐Anteil in der B–Si‐Bindung mit steigendem Silylierungsgrad des Borats wächst, d.h. im symmetrisch substituierten 1 am größten ist. Die Kopplungskonstante 1 J ( 29 Si 11 B) besitzt auf Grund indirekter Hinweise ein negatives Vorzeichen.