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Die Bor‐Halogen‐Bindung in Methylhalogenboranen: Photoelektronenspektren und ab initio‐Rechnungen
Author(s) -
Berger HansOtto,
Kroner Jürgen,
Nöth Heinrich
Publication year - 1976
Publication title -
chemische berichte
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.667
H-Index - 136
eISSN - 1099-0682
pISSN - 0009-2940
DOI - 10.1002/cber.19761090633
Subject(s) - chemistry , ab initio , crystallography , organic chemistry
Die He(I)‐Photoelektronen(PE)‐Spektren der Methylhalogenborane (CH 3 ) 3−n BX n (X = F, Cl, Br; n = 1,2) werden mit den bekannten PE‐Spektren der Trihalogenborane BX 3 und des Trimethylborans B(CH 3 ) 3 an Hand von ab initio‐Rechnungen vergleichend diskutiert. Korrelationen von Orbital‐und Ionisierungsenergien, von π‐Ladungsdichten und 11 B‐Kernresonanzverschiebungen sowie von berechneten und gemessenen Dipolmomenten vermitteln Einblicke in die Bindungsverhältnisse dreifach koordinierter Bor‐Verbindungen mit den Substituenten X = F, Cl, OCH 3 , SCH 3 , N(CH 3 ) 2 und CH 3 .

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