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Zur relativen Stabilität der Silicium‐Halogen‐Bindungen
Author(s) -
Schmidbaur Hubert
Publication year - 1965
Publication title -
chemische berichte
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.667
H-Index - 136
eISSN - 1099-0682
pISSN - 0009-2940
DOI - 10.1002/cber.19650980109
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry
Durch Einwirkung von Schwefeltrioxid auf Trimethylfluorsilan entsteht die Verbindung (CH 3 ) 3 SiOSO 2 F (I), die nach dem NMR‐Spektrum ein echtes Trimethylsilyl‐fluorosulfat und nicht ein Addukt (CH 3 ) 3 SiF.SO 3 ist. I reagiert mit Trimethylchlorsilan quantitativ zu Trimethylsilyl‐ chloro sulfat unter Rückbildung von Trimethyl fluor silan. Die Sulfurierung von Dimethyldifluorsilan mit SO 3 liefert stufenweise Dimethylfluorsilyl‐fluorosulfat (CH 3 ) 2 FSiOSO 2 F und Dimethylsilyl‐bis‐fluorosulfat (CH 3 ) 2 Si(OSO 2 F) 2 . Beide Stoffe wirken ebenfalls auf Methylchlorsilane sulfurierend ein unter Rückbildung von (CH 3 ) 2 SiF 2 . — Dimethylfluorchlorsilan (CH 3 ) 2 SiFCl addiert ein Mol. SO 3 ausschließlich zu Dimethylfluorsilyl‐ chloro sulfat, nicht aber zu Dimethylchlorsilyl‐fluorosulfat. Die Identität ist wieder NMR‐spektroskopisch eindeutig nachweisbar. — Die physikalischen und NMR‐spektroskopischen Daten der neuen Verbindungen werden beschrieben und zusammen mit den beobachteten Reaktionsabläufen hinsichtlich der relativen Stabilität der Silicium‐Halogen‐Bindungen diskutiert.