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Erweiterung ungesättigter Siliciumcluster mit atomarer Genauigkeit
Author(s) -
Leszczyńska Kinga I.,
Huch Volker,
Präsang Carsten,
Schwabedissen Jan,
Berger Raphael J. F.,
Scheschkewitz David
Publication year - 2019
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.201811331
Subject(s) - chemistry
Kleine bis mittelgroße Cluster treten in verschiedenen Bereichen der Chemie auf, z. B. als aktive Spezies der heterogenen Katalyse oder als kurzlebige Zwischenprodukte bei der chemischen Gasphasenabscheidung. Die Manipulation stabiler Repräsentanten beschränkt sich meist auf die stabilisierende Ligandenperipherie und schließt die systematische Variation des eigenschaftsbestimmenden Clustergerüsts praktisch aus. Wir berichten nun über die gezielte Erweiterung eines stabilen ungesättigten Siliciumclusters von sechs auf sieben und schließlich acht Gerüstatome. Die aufeinanderfolgende Anwendung von Lithium/Naphthalin als Reduktionsmittel und Decamethylsilicocen als elektrophile Siliciumquelle führt zur Erweiterung des Kerns um genau ein Atom mit dem Potenzial zur unendlichen Wiederholung.