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Wasserbildung unter dünnen Silika‐Filmen: Echtzeitbeobachtung einer chemischen Reaktion in einem physikalisch eingegrenzten Raum
Author(s) -
Prieto Mauricio J.,
Klemm Hagen W.,
Xiong Feng,
Gottlob Daniel M.,
Menzel Dietrich,
Schmidt Thomas,
Freund HansJoachim
Publication year - 2018
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.201802000
Subject(s) - chemistry
Mit niederenergetischer Elektronenmikroskopie und lokaler Fotoelektronenspektroskopie wurde die Bildung von Wasser aus absorbierten O und H 2 auf einer Ru(0001)‐Oberfläche untersucht, die mit einer glasartigen SiO 2 ‐Bilage (BL) bedeckt war, und mit der gleichen Reaktion auf der reinen Ru(0001)‐Oberfläche verglichen. In beiden Fällen tritt eine fortschreitende Reaktionsfront auf. Der Grund hierfür kann mit der Anforderung zusammenhängen, dass die O‐Adatome Platz freigeben müssen, damit weiterer H 2 dissoziativ adsorbiert. Wir finden scheinbare Aktivierungsenergien ( E a a p p ) für die Frontbewegung von 0.59 eV ohne Deckschicht und 0.27 eV mit Deckschicht. Wir schlagen vor, dass bei der SiO 2 ‐BL‐bedeckten Ru(0001)‐Oberfläche die geringere Aktivierungsenergie aber höhere Reaktionstemperatur durch eine Änderung des geschwindigkeitsbestimmenden Schritts verursacht wird. Weitere mögliche Auswirkungen der Deckschicht werden diskutiert. Unsere Resultate ergeben die ersten Werte für E a a p pim eingegrenzten Raum (“confinement”).