Nanoskalige Oberflächenstrukturierung mittels Atomlagenabscheidung

Das Interesse an der kontrollierten Strukturierung von Oberflächen ergibt sich aus einer Vielzahl von Bereichen, welche die mikroelektronische Bauelementherstellung, optische Geräte, Biosensorik, (Elektro‐, Photo‐)Katalyse, Batterien, Solarzellen, Brennstoffzellen und Sorption einschließen. Ein einzigartiges Merkmal der Atomlagenabscheidung (ALD) besteht darin, dass konforme, gleichmäßige Beschichtungen auf beliebig geformten Materialien mit kontrollierten atomaren Schichtdicken erhalten werden können. In diesem Kurzaufsatz diskutieren wir das Potenzial der ALD zur nanoskaligen Strukturierung von Oberflächen und betonen dabei die vielseitigen Anwendungen im Hinblick auf die Strukturierung planarer und pulverförmiger Substrate. Berücksichtigt man die jüngsten Fortschritte bei der Anwendung der ALD auf poröse Substrate, ist nun sogar die nanoskalige Strukturierung von Materialien mit großer spezifischer Oberfläche realisierbar. Dies ermöglicht neuartige Anwendungen, beispielsweise auf den Gebieten der Katalyse und der regenerativen Energien.