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Self‐Cleaning Functional Molecular Materials
Author(s) -
Avinash M. B.,
Verheggen Elisabeth,
Schmuck Carsten,
Govindaraju T.
Publication year - 2012
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.201204608
Subject(s) - nanotechnology , chemistry , materials science
Waschen und Polieren : Ein einfaches lösungsbasiertes Verfahren führt über eine spontane hierarchische Aggregation zu Mikroanordnungen eines Naphthalindiimid‐Derivats. Mithilfe dieser Methode wurden weiterhin selbstreinigende Oberflächen mit sehr kleinem Abgleitwinkel (3°) und sehr kleiner Hysterese für den Kontakwinkel (1°) erhalten.
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