Titelbild: Die Rolle dissoziativer Elektronenanlagerung in Prozessierungsverfahren mit fokussierten Elektronenstrahlen – eine Fallstudie an Tricarbonyl(nitrosyl)cobalt (Angew. Chem. 40/2011)

Absolute Querschnitte für die dissoziative Elektronenanlagerung an Tricarbonyl(nitrosyl)cobalt wurden bestimmt. Nanostrukturen, die durch elektroneninduzierte Prozesse mit fokussiertem Elektronenstrahl (FEBIP) erhalten werden, können durch zurückgestreute und sekundäre Elektronen niedriger Energie verschmiert sein. In ihrer Zuschrift auf S. 9647 ff. diskutieren Š. Matejčík, O. Ingólfsson et al. das Anlagern von Elektronen an metallorganische Verbindungen in FEBIP.