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Formation of Boron‐Based Films and Boron Nitride Layers by CVD of a Boron Ester
Author(s) -
Sachdev Hermann,
Müller Frank,
Hüfner Stefan
Publication year - 2011
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.201003012
Subject(s) - boron , boron nitride , chemistry , polymer chemistry , materials science , organic chemistry
Borverbindungen in dünnen Lagen : Bei der chemischen Gasphasenabscheidung von (MeO) 3 B auf einem Rh(111)‐Mehrschichtsubstrat erfolgt eine selektive Zersetzung der Vorstufe unter Bildung eines boridartigen Films. Dieser Film kann oxidiert und chemisch in eine geordnete Bornitrid‐Monolage (siehe Modell) umgewandelt werden, was einen neuen Zugang zu BN‐Systemen eröffnet.