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Herstellung mikroskaliger Proteinresistenzgradienten durch Elektronenstrahl‐Lithographie
Author(s) -
Winkler Tobias,
Ballav Nirmalya,
Thomas Heidi,
Zharnikov Michael,
Terfort Andreas
Publication year - 2008
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.200800810
Subject(s) - chen , content (measure theory) , polymer science , chemistry , philosophy , nanotechnology , mathematics , materials science , biology , mathematical analysis , paleontology
Variables Haftvermögen : Die strahlungsinduzierte Austauschreaktion an Monoschichten mit Ethylenglycol‐terminierten Thiolen als Liganden ermöglicht die präzise Einstellung der Bioresistenz von Oberflächen. In Kombination mit Elektronenstrahl‐Lithographie können auf diese Weise mikroskalige Proteinresistenzgradienten geschrieben werden (siehe Bild; AFM: Rasterkraftmikroskopie).