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Electron‐Beam Chemical Lithography with Aliphatic Self‐Assembled Monolayers
Author(s) -
Ballav Nirmalya,
Schilp Soeren,
Zharnikov Michael
Publication year - 2008
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.200704105
Subject(s) - self assembled monolayer , chemistry , monolayer , nanotechnology , lithography , polymer chemistry , materials science , optoelectronics
Nanomuster : Eine neuartige chemische Lithographietechnik mit selbstorganisierten Monoschichten (SAMs) ermöglicht die Erzeugung von Polymernanomustern (siehe Beispiel) aus kommerziell erhältlichen aliphatischen Verbindungen als Resistmaterialien. Die Technik beruht auf einer durch Bestrahlung vermittelten Austauschreaktion. Zur Erzeugung der Muster wird eine deutlich geringere Stahlungsdosis benötigt als bei chemischen Lithographieverfahren mit Elektronenstrahlen und aromatischen SAMs.