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Fluorocarbon Resist for High‐Speed Scanning Probe Lithography
Author(s) -
Rolandi Marco,
Suez Itai,
Scholl Andreas,
Fréchet Jean M. J.
Publication year - 2007
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.200701496
Subject(s) - fluorocarbon , chemistry , nanotechnology , materials science , organic chemistry
Schnell wie der Blitz : Durch Hochgeschwindigkeits‐Rastersondenlithographie in Perfluoroctan lässt sich fluorierter amorpher Kohlenstoff direkt mit Geschwindigkeiten im cm s −1 ‐Bereich abscheiden. Muster von nur 27 nm Größe lassen sich innerhalb von Sekunden auf 100 μm 2 großen Flächen erzeugen. Die nanoskaligen Muster wurden mithilfe der Photoelektronenemissionsmikroskopie und der Sekundärionenmassenspektrometrie charakterisiert.