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Covalently Attached Monolayers on Hydrogen‐Terminated Si(100): Extremely Mild Attachment by Visible Light
Author(s) -
Sun QiaoYu,
de Smet Louis C. P. M.,
van Lagen Barend,
Wright Andrew,
Zuilhof Han,
Sudhölter Ernst J. R.
Publication year - 2004
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.200352137
Subject(s) - chemistry , covalent bond , monolayer , hydrogen , polymer chemistry , photochemistry , organic chemistry , biochemistry
Mild und praktisch : Eine Methode zur Beschichtung flacher Siliciumoberflächen mit organischen Monoschichten unter Bestrahlung mit sichtbarem Licht (447 nm; siehe Schema) wurde entwickelt, und der Mechanismus des Prozesses wurde untersucht. Mit winkelauflösender Röntgenphotoelektronenspektroskopie (ARXPS) konnten Tiefenprofile der Atomsorten in der Monoschicht (ca. 2 nm Dicke) gemessen werden.
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