Festkörperchemie mit Nichtmetallnitriden

Unter den Nichtmetallnitriden sind vor allem die polymer aufgebauten binären Verbindungen BN und Si 3 N 4 für die Entwicklung von Werkstoffen für Hochleistungsanwendungen von Interesse. Herausragende Merkmale beider Substanzen sind ihre thermische, mechanische und chemische Beständigkeit bei gleichzeitig geringer Dichte. Aufgrund ihrer besonderen Reaktionsträgheit wurden Bor‐ und Siliciumnitrid in der präparativen Chemie kaum als Ausgangssubstanzen zur Darstellung ternärer oder höherer Nitride eingesetzt, sondern in erster Linie als Tiegel‐, Gefäß‐ oder Isolationsmaterialien. Die Chemie ternärer und höherer Nichtmetallnitride, die elektropositive Elemente enthalten und somit analog zu Oxoverbindungen wie Boraten, Silicaten, Phosphaten oder Sulfaten sind, wurde hingegen lange Zeit vernachlässigt. Ausgehend von dem kürzlich erstmals rein dargestellten P 3 N 5 , einem weiteren binären Nichtmetallnitrid, welches sowohl strukturell als auch bezüglich seiner Eigenschaften Analogien zu Si 3 N 4 aufweist, wird in diesem Übersichtsartikel die Festkörperchemie von ternären und höheren Phosphor(v)‐nitriden beschrieben, Struktur‐Eigenschafts‐Beziehungen diskutiert sowie Anwendungsmöglichkeiten vorgestellt. Aus der Sicht der präparativen Festkörperchemie werden ferner Synthesen, Strukturen und Eigenschaften der binären Nichtmetallnitride BN, Si 3 N 4 und P 3 N 5 einander gegenübergestellt. Ähnlich wie die Kombination Phosphor‐Stickstoff zur umfangreichen Chemie von Phosphor(v)‐nitriden führt, so lassen auch andere Nichtmetalle wie Bor, Silicium, Schwefel oder Kohlenstoff eine umfangreiche Nitridochemie erwarten, wofür es bereits erste Anhaltspunkte gibt.