Resisttechnik ‐ ein Beitrag der Chemie zur Elektronik

Hinter dem Wort „Elektronik” zeichnet sich für viele der Umriß einer weiteren industriellen Revolution ab. Motor dieser Entwicklung ist der stürmische Fortschritt auf dem Gebiet integrierter Halbleiterschaltungen. Dabei müssen immer mehr und immer kleinere Strukturen auf der gleichen Fläche des Halbleiterkristalls untergebracht werden. Dieser Verkleinerungstrend hat nicht nur die integrierte Schaltung erfaßt, sondern auch deren Montagebasis, die Leiterplatte; integrierte Schaltungen mit 65536 Speicherplätzen, d. h. mehr als 1 Einzelfunktionen auf einem weniger als 1 cm 2 großen Halbleiterscheibchen, gehören heute schon zum industriellen Standard. Diese Mikrowelt, deren Leistungsfähigkeit kaum noch überschaubar ist, fasziniert jeden naturwissenschaftlich‐technisch Interessierten unmittelbar; die Rolle der Chemie beim Erschaffen dieser Welt wird erst bei näherer Betrachtung der Fertigungsverfahren deutlich: Kein mechanisches Werkzeug ist fein genug, keine Maschine hinreichend präzise und schnell, komplizierte Strukturen im Mikrometerbereich mit der geforderten Perfektion herauszuarbeiten. Die Chemie erst hat die Massenproduktion elektronischer Bauelemente und damit deren heutige weite Verbreitung ermöglicht. Auch die Zukunft elektronischer Bauteile wird von der Chemie entscheidend beeinflußt werden: Ob im Bereich der Photoresists für die Herstellung von Leiterplatten mit Leiterbahnbreiten unter 100 μ ob bei der Überwindung der 1 μm‐Barriere in der Halbleiterfertigung durch Einsatz von Elektronen‐ und Röntgenstrahl‐Resists — Photo‐ und Strahlenchemie müssen neue Fertigungsverfahren entwickeln, und die Polymerchemie muß technisch verwertbare Materialien zur Verfügung stellen.