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Matrixisolation von OSiS: IR‐spektroskopischer Nachweis einer SiS‐Doppelbindung
Author(s) -
Schnöckel Hansgeorg
Publication year - 1980
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.19800920417
Subject(s) - chemistry
Das Molekül OSiS konnte in einer Argonmatrix hergestellt und IR‐spektroskopisch untersucht werden. Die Kraftkonstanten für SiS bzw. SiO betragen 4.86±0.06 bzw. 9.0±0.1 [10 2 Nm −1 ], die Bindungsgrade 1.9 bzw. 2.01. OSiS ist die erste Si IV ‐Verbindung mit SiS‐Doppelbindung.