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Ionenimplantation in Halbleiter
Author(s) -
Fritzsche Christian
Publication year - 1978
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/ange.19780900708
Subject(s) - chemistry , nanotechnology , analytical chemistry (journal) , materials science , chromatography
Die Ionenimplantation ist ein Verfahren zum Einfügen von Fremdatomen in feste Körper, das selbst im Falle kleinster Mengen und geringster Eindringtiefen große Genauigkeit ermöglicht. Der Grundgedanke ist die Dotierung durch Einschießen beschleunigter Ionen, und das wichtigste Anwendungsgebiet ist die Technologie der Halbleiter‐Bauelemente. Die Wirkung der Implantation steht in engem Zusammenhang mit dem gleichzeitig entstehenden Strahlungsschaden und dessen Ausheilverhalten.