Thermische Ionisation von Cu, Ag und Ti an reinen und mit Fremdschichten bedeckten Oberflächen von polykristallinem W und Re

Mit einem Massenspektrometer wurde die Oberflächenionisation von Cu, Ag, Ti an W bzw. Re untersucht. Bei Temperaturen oberhalb 2000 bis 2500° K genügt der Ionisierungsgrad α der Langmuir‐Gleichung. Aus dem Anstieg der Kurven In α (1/ T ) in diesem Temperaturbereich wurden die effektiven Austrittsarbeiten des polykristallinen W zu Φ w = (4,55 ± 0,1) eV und des polykristallinen Re zu Φ Re = (5,2 ± 0,1) eV bestimmt. Im Bereich niedrigerer Temperaturen ergeben sich erhebliche Abweichungen von α vom durch die Langmuirhyphen;Gleichung gegebenen Verlauf. Diese können auf Veränderungen der Austrittsarbeit ΔΦ zurückgeführt werden, was durch Direktmessungen von ΔΦ mit einer Gegenspannungsmethode bestätigt wird. Verursacht wird die Änderung der Austrittsarbeit wahrscheinlich durch die Adsorption von Restgaskomponenten. Aber auch die Kondensation der Ionisanden Cu, Ag und vor allem Ti führt zu Änderungen der Austrittsarbeit. — In der theoretischen Übersicht wurden die Abweichungen von der Langmuirhyphen;Gleichung im statistischen Nichtgleichgewicht und der Einlfluß von polykristallinen Oberflächen erörtert.