Premium
Über eine von der Lichtrichtung abhängige Photo‐EMK an polykristallinen PbS‐Schichten
Author(s) -
Schwabe G.
Publication year - 1956
Publication title -
annalen der physik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 1.009
H-Index - 68
eISSN - 1521-3889
pISSN - 0003-3804
DOI - 10.1002/andp.19564520410
Subject(s) - physics
Abstract Es wird über eine an polykristallinen PbS‐Schichten auftretende Photo‐EMK berichtet, welche nach Größe und Vorzeichen von der Einfallsrichtung des Lichtes abhängt. Als Entstehungsursache dieser Photo‐EMK werden von Sauerstoffadsorption herrührende Oberflächenzustände angesehen. Unter dieser Voraussetzung werden Rückschlüsse auf den Schichtenaufbau und den Reaktionsmechanismus bei Belichtung gezogen. Ferner werden Untersuchungen an PbS‐Schichten mitgeteilt, welche nach Formierung in einem Temperaturgradienten eine beträchtliche Unsymmetrie in der Winkelverteilung der Photo‐EMK zeigen. Dieses Verhalten kann auf Grund einer Thermodiffusion von Gitterstörstellen erklärt werden.