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Zweistoffschichten. II. Schichtdicken‐, Temperatur‐ und Unterlagenabhängigkeit der Diffusion von Silber in Tellur
Author(s) -
Mohr Th.
Publication year - 1954
Publication title -
annalen der physik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 1.009
H-Index - 68
eISSN - 1521-3889
pISSN - 0003-3804
DOI - 10.1002/andp.19544490610
Subject(s) - physics
Die einseitig ablaufende Diffusion von Silber in Tellur wurde an dünnen im Hochvakuum auf eine isolierende Unterlage aufgedampften Schichten im Temperaturbereich 0 bis 192° C untersucht. Besondere Beachtung fand dabei die Schichtdickenabhängigkeit des Anlaufvorganges sowie der Einfluß der Unterlage.