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Röntgenfluoreszenz‐Beschichtungsmessung im Vakuum‐Prozess. X‐Ray Fluorescence Coating Measurements in Vacuum Processes
Author(s) -
Esche H.J.,
Piltz J.
Publication year - 2002
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/1522-2454(200206)14:3<165::aid-vipr165>3.0.co;2-z
Subject(s) - coating , materials science , metallurgy , analytical chemistry (journal) , nuclear chemistry , chemistry , nanotechnology , environmental chemistry
Eine effektive Steuerung des PVD‐Beschichtungsprozesses erfordert die Online‐Gewinnung von Informationen über die aktuelle Beschichtungsdicke und/oder Schichtzusammensetzung. Die energiedispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (EDXRF) kann für diese Messaufgaben sehr effektiv eingesetzt werden. Sie gestattet die Messung von Beschichtungen mit den Leichtmetallen Al, Si und Mg sowie deren Oxiden bis hin zu Elementen wie Cu, Se, In, Ga in fotovoltaischen Beschichtungen oder den klassischen Edelmetallen wie Ag und Au. Durch vorteilhafte Gestaltung des Messsystems wird es möglich, auch sehr dünne Beschichtungen ab ca. 20 nm aufwärts kontinuierlich zu messen. An Ausführungsbeispielen werden die Vorteile des EDXRF‐Messverfahrens für die kontinuierliche Beschichtungsmessung erläutert.