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Characterization of stoichiometric defects in diamond, a‐C and CN x thin films with Soft X‐ray photoelectron microscopy (X‐PEEM)
Author(s) -
Frederik Wegelin,
Ziethen Christian,
Ohr Ralph,
Neuhäuser Marc,
Hilgers Heinz,
Schönhense Gerd
Publication year - 2001
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/1522-2454(200110)13:5<287::aid-vipr287>3.0.co;2-y
Subject(s) - xanes , materials science , x ray photoelectron spectroscopy , analytical chemistry (journal) , crystallography , chemistry , spectroscopy , physics , nuclear magnetic resonance , quantum mechanics , chromatography
Amorphe Kohlenstoff‐ und Kohlenstoffnitridschichten werden vielseitig als Schutzschichten in der Industrie verwandt. Insbesondere werden in der Magnetfestplattenspeicherindustrie verschleißfeste sauerstoffundurchlässige Schutzschichten von wenigen Nanometern Dicke benötigt. Röntgen‐Photoemissions‐Elektronenmikroskopie (X‐PEEM) stellt eine Analysetechnik zur Charakterisierung u.a. von Kohlenstoffschutzschichten dar, da sich Informationen über die lokale Bindungsumgebung aus der Röntgenabsorptions‐Nahkantenstruktur (XANES) gewinnen lassen. CVD‐DLC‐ sowie a‐C‐ und CN x ‐Schichten wurden analysiert. Für die a‐C‐Schichten auf Si (100) wurde der Anteil sp 2 ‐hybridisierter Atome bestimmt und mit den mechanischen Eigenschaften der Schicht korreliert. An der CN x ‐Schicht einer kommerziellen Festspeicherplatte wurde ein Kratztest durchgeführt und der Defekt anschließend mit X‐PEEM analysiert.