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Large area plasma sources for industrial applications
Author(s) -
Baumgärtner K.M.,
Muegge H.
Publication year - 2001
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/1522-2454(200106)13:3<188::aid-vipr188>3.0.co;2-j
Subject(s) - plasma , physics , materials science , nanotechnology , analytical chemistry (journal) , engineering , chemistry , mechanical engineering , nuclear physics , environmental chemistry
Plasmatechnologische Prozesse in der modernen Dünnschichttechnologie zur Veredelung von Oberflächen erlangen einen ständig wachsenden Stellenwert. Dünnschichttechniken nutzen in der Hauptsache vakuum‐, ionen‐ und plasmatechnische Verfahren zur Oberflächenmodifikation und Schichtdeposition. Insbesondere plasmatechnologische Verfahrenskonzepte im industriellen Bereich verlangen an die industriellen Erfordernisse angepaßte, großflächige und skalierbare Plasmaquellen. Ein neuartiges Quellenkonzept, basierend auf einer koaxialen Struktur, vereint diese Vorgaben und erlaubt beliebig ausgedehnte und flächige Plasma‐Anordnungen.