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Machine and Process Technology for Micro‐Machining with vacuum‐UV Excimer Laser
Author(s) -
Ostendorf Andreas,
Arens Winfried,
Kulik Christian,
Temme Thorsten
Publication year - 2001
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/1522-2454(200104)13:2<96::aid-vipr96>3.0.co;2-0
Subject(s) - excimer laser , excimer , materials science , laser beams , resolution (logic) , die (integrated circuit) , optics , laser , physics , nanotechnology , computer science , artificial intelligence
Durch den Einsatz von F 2 ‐Excimer‐Lasern ist es jetzt möglich, innovative Materialien wie Quarzglas oder PTFE (Teflon®) mit hoher Präzision zu bearbeiten. Die kurzwellige Strahlung mit λ =157 nm bei einer Photonenenergie von 7,9 eV stellt hierbei jedoch besondere Ansprüche an die Strahlführung und die entsprechenden optischen Komponenten wie Spiegel, Linsen und Objektive. Mit der hier vorgestellten Anlagen‐ und Prozesstechnik können Strukturen mit einer lateralen Auflösung von wenigen μm und eine Tiefenauflösung im sub‐μm‐Bereich erreicht werden.