In‐situ measurement of thin films on architectural glass

Zusammenfassung In der Abscheidung moderner Schichtsysteme auf Architekturglas (Wärme‐ und Sonnenschutz, Antireflexbeschichtungen) spielt das reaktive Magnetron‐Sputtern eine zentrale Rolle. Die Herstellung dieser Schichten durch reaktives Sputtern erfordert eine Anlagentechnik, die sowohl die hohen Qualitätsanforderungen an die Beschichtung erfüllt als auch eine effiziente Produktion der Schichten ermöglicht. Die in‐situ Schichtmessung durch Ellipsometrie kann dabei sehr wirkungsvoll für die Schichtmonitorierung und ‐kontrolle insbesondere bei komplexen Schichtsystemen eingesetzt werden. Von großer Bedeutung im Hinblick auf die Langzeitstabilität ist die in‐situ Schichtmessung bei der Verwendung der neuartigen Mittelfrequenz‐Sputtertechnik, die Ratensteigerungen um bis zu 500 % ermöglicht, zugleich aber auch eine dynamische Plasmastabilisierung im sog. »transition mode« erfordert. Im Rahmen eines vom BMBF geförderten Verbundprojektes wurde die spektroskopische Ellipsometrie als Meßverfahren auf einer Großflächen‐Glasbeschichtungsanlage (Semco Glasbeschichtung, Neubrandenburg) implementiert und unter realen Produktionsbedingungen getestet. Die Untersuchungen zeigen, daß die Ellipsometrie hervorragend geeignet ist, mit hoher Präzision optische Schichteigenschaften auch komplexer optischer Schichtsysteme auf Architekturglas zu bestimmen und somit die Grundlage für eine Effizienzsteigerung der Anlage zu gewährleisten.